第四代 Phenom Pure+ 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高分辨臺(tái)式
全自動(dòng)掃描電子顯微鏡鏡。放大倍數(shù) 65,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。基于高亮度 CeB6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，Phenom Pro 的分辨率輕松達(dá)到 25 nm，同時(shí)具有全自動(dòng)操作、15 秒快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)。納臺(tái)式掃描電鏡在中國市場(chǎng)的推廣和銷售，提供專業(yè)的和測(cè)試服務(wù)，飛納中國擁有*的服務(wù)團(tuán)隊(duì)，提供*化的解決方案；飛納中國提出飛納學(xué)校 （Phenom University）的概念，為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州設(shè)立了測(cè)試中心和售后服務(wù)中心，目前飛納在中國已經(jīng)擁有接近 500 名用戶。
在選購時(shí)，您*需要考慮的問題，工作效率：
全自動(dòng)掃描電子顯微鏡優(yōu)劣評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)，是掃描電鏡的工作效率高低儀器客觀的工作效率是由儀器的軟硬件決定的，當(dāng)基本的功能指標(biāo)都相同或者相似，其中對(duì)效率影響zui大的兩個(gè)因素，是真空系統(tǒng)的清潔程度和樣品臺(tái)的自動(dòng)化程度。電子束掃描樣品時(shí)，會(huì)被電子束誘導(dǎo)沉積到正在觀察的樣品區(qū)域表面，越高倍，沉積速度越快，污染降低se產(chǎn)額，從而降低成像分辨率；末級(jí)光闌在電子束作用下，zui容易沉積污染物，污染的隨機(jī)變化，在高倍引起的象散需要隨時(shí)進(jìn)行校正。往往高倍需要逐級(jí)消象散，在一個(gè)區(qū)域調(diào)節(jié)電鏡參數(shù)到*，然后迅速電位移到就近區(qū)域掃描存儲(chǔ)圖像，這降低操作效率。
